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        氧化鋅鋁靶材的制備方法

        點擊量:542  更新時間:2019/9/23

        磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式,濺射靶材的要求較傳統材料行業高,一般要求如,尺寸、平整度、純度、各項雜質含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制;較高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異物(氧化物)含量與尺寸、導磁率、超高密度與超細晶粒等等。

        AZO是鋁摻雜的氧化鋅(ZnO)透明導電玻璃的簡稱,ZnO薄膜是一種重要的光電子信息材料,不僅具有與傳統的ITO薄膜相比擬的光電性質,而且原料豐富,價格低,無毒性,熱穩定性高,在太陽能電池、液晶顯示器及光電探測器等領域有著廣泛的應用前景。

        氧化鋅鋁靶材的制備方法包括以下步驟:

        1、以鋅鹽和鋁鹽為原料,加純水溶解,調pH至7.0~10.5,然后在水熱條件下,控溫90~140℃反應1.0~2.0小時;

        2、過濾使產物和母液分離,用純水洗滌、烘干,得到氧化鋅鋁粉體;

        3、所得粉體在400~550℃煅燒2小時;

        4、將所得粉體裝入真空熱壓爐,抽真空1~100Pa,加壓50~100MPa,然后慢慢升溫,在1200~1400℃內保溫燒結2~5小時,再緩慢降溫,制得相對密度不低于95%的氧化鋅鋁(ZAO)陶瓷靶材。 
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